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石龙真空光学镀膜-仁睿电子(在线咨询)-真空光学镀膜加工厂

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什么是镀膜？薄膜沉积（镀膜）是在基底材料上形成和沉积薄膜涂层的过程，在基片上沉积各种材料的薄膜是微纳加工的重要手段之一，薄膜具有许多不同的特性，可用来改变或改善基材性能的某些要素。例如，透明，耐用且耐刮擦；增加或减少电导率或信号传输等。薄膜沉积厚度范围从纳米级到微米级。常用的薄膜沉积工艺是物理气相沉积（PVD）与化学气相沉积（CVD）。








如果从一个介质传递到另一个介质且折射率较低的光线的入射角大于由两种折射率的比值定义的材料临界角 (θC)，则会发生全反射，光线将完全反射（图 4）。入射角等于临界角时，折射角等于 90°。两种光介质界面的透射和反射的振幅系数由菲涅耳透射和反射方程决定: 3

(5)ts=2n1cosθ1n1cosθ1+n2cosθ2ts=2n1cos⁡θ1n1cos⁡θ1+n2cos⁡θ2

(6)rs=n1cosθ1−n2cosθ2n1cosθ1+n2cosθ2rs=n1cos⁡θ1−n2cos⁡θ2n1cos⁡θ1+n2cos⁡θ2



金属层如镁和氟化物沉积在被涂覆的物体上(称为基底)。根据层的数量和厚度、材料类型和所用的涂层工艺，可以确定反射或折射的程度。与无涂层产品不同，光学涂层使产品能够以不同的方式反射光线。涂层通常是通过使用由技术人员操作的机器来完成的，技术人员对机器过程进行编程或监督。一些机器执行自动化过程，不需要仔细监督。

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